Sauerstoffentferner auf Manganbasis

HT Mangan-basierter Sauerstoffentferner ist eine Art Sauerstoffentferner für das Mn-System. Es wird hauptsächlich in der Ethylen- und Propylenindustrie verwendet, um Spuren von O2 im Ausgangsmaterial zu entfernen, oder um Spuren von Sauerstoff in Gasen wie N2, H2, Ar und CO zu entfernen. Es hat die Fähigkeit, Sauerstoff ohne Hydrierung bei Raumtemperatur zu entfernen Eigenschaften: hohe Sauerstoffentfernungseffizienz, große Sauerstoffentfernungskapazität, Leistung bei der Entfernung von Verunreinigungen von CO2 und H2O usw. sowie stabiler Betrieb und keine Überhitzung.

Normalerweise verwenden die meisten Anlagen Sauerstoffentferner des Ni-Systems, um Sauerstoff im Ausgangsmaterial zu entfernen. Sein Mechanismus besteht darin, dass das reduzierte Nickel mit Sauerstoff in Propylen reagiert, um hochvalente Nickeloxide zu erzeugen, was zur Entfernung von Sauerstoff führt.

In der Produktionspraxis verteilen sich die aktiven Zentren im Nickel-Sauerstoff-Entferner jedoch nicht gut, die Aktivierungsreaktion ist heftig und der Entferner absorbiert beim Aktivierungsprozess stark Wasserstoff, was zu einer Überhitzung des Nickel-Sauerstoff-Entferners führen kann, was zum Sintern des Nickels führt Reinigungsturm. Dadurch wird die normale Produktion beeinträchtigt, was zu einem Verlust des wirtschaftlichen Nutzens führt.

Darüber hinaus hat der Sauerstoffentferner des Ni-Systems eine zylindrische Form, eine geringe Festigkeit und lässt sich unter Belastung leicht zerdrücken. Die produzierten Pulver gelangen mit dem Ausgangsmaterial in das Produktionssystem und wirken sich auf den nachgelagerten Prozess aus.

Der auf Mangan basierende HT-Sauerstoffentferner hingegen beseitigt die oben genannten Mängel. Sein Äußeres ist kugelförmig, es hat eine hohe Festigkeit, lässt sich unter Belastung nicht leicht zerdrücken, außerdem hat es mehrere Funktionen, der Betrieb ist stabil, wobei jeder Index den Anforderungen des Polymerisationsprozesses entspricht.

Regenerations- und Sauerstoffentfernungsmechanismen des hocheffizienten HT-Sauerstoffentferners:

Aktivierungs- (Regenerations-) Prozess: MnOx +2n ​​+ 2nH2 → MnOx + 2nH2O

Sauerstoffentfernungsprozess:MnOx + nO → MnOx +2n

1. Große Desoxygenierungskapazität,

2. Tiefe Desoxygenierungstiefe,

3. Hohe Festigkeit,

4. Gute Hitzebeständigkeit,

5. Entfernen von Verunreinigungen durch CO2 und H2O

6. Stabiler Betrieb und keine Überhitzung.

HT-Sauerstoffentferner auf Manganbasis wird häufig in den Bereichen Petrochemie, Stahlmetallurgie, elektrische Halbleiter, Leichtindustrie und Forschungseinheiten eingesetzt, die hochreine Gase verwenden.

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